САЩ разработват първия в света конкурент на ASML

Съединените щати се налагат като първата страна в света, която разработва собствена конкурентна альтернатива на ASML – известната холандска компания, която произвежда оборудването за най-модерните полупConductивни чипове. Новият стартъп Substrate разкрива обещаваща технология, основаваща се на рентгенови лъчи за литография, вместо на традиционната ултравиолетова радиация.

Днес е трудно да си представим съвременния технологичен ландшафт без присъствието на ASML. Въпреки че за много хора извън индустрията на полупроводниците компанията остава непозната, нейното оборудване за литография почти неизменно играе основна роля в производството на съвременни чипове.

В последно време в Съединените щати възниква нова компания, готова да предизвика холандския монопол. Стартъпът Substrate има за цел да разработи литографски машини, които функционират на малко по-различни принципи от тези на ASML.

Идеята зад иновацията е да се създадат литографски устройства, които са сравними с EUV машините на ASML, но вместо обичайното екстремно ултравиолетово лъчение, Substrate планира да интегрира късовълнови рентгенови лъчи, генерирани от ускорител на частици.

Стартъпът вече е набрал значителни инвестиции от порядъка на 100 милиона долара от инвеститори като Founders Fund и е достигнал оценка от 1 милиард долара, доказвайки, че интересът към тяхната технология расте.

Компанията твърди, че тяхната уникална технология има потенциала да намали разходите за използване на литографското оборудване в сравнение с EUV машините на ASML, което е изключително значимо за индустрията. Някои експерти вече оцениха предварително представената технология на Substrate като впечатляващо постижение и значителен напредък.

Плановете на стартъпа включват използването на рентгенови лъчи с по-къса дължина на вълната от 13,5-нанометровата EUV технология на ASML, което би могло да осигури по-надежден печат върху полупроводниковите платки. Substrate уверява, че ще успее да намали значително цената на процеса на чип-литографията, което би могло да доведе до революция в производството на полупроводници.